产品名称：钐靶材 钐蒸发颗粒 钐棒  产品规格：￠(10--400)~￠(3--28)mm  圆靶材规格:直径（10--400）mm *厚度(3--28)mm 方靶材规格：厚度(0.8-18)mm*宽度(10-650)mm*长度(60-2000)mm 牌号： S*9.95 纯度 :  >=99.95%(*99.99%)              再结晶    :   95%**少 晶粒度   :   **小40μm 表面粗糙度: Ra 0.8 * 平整度    :  0.1mm or 0.10% * 公差     :    直径公差+/- 0.254 公司主要经营产品： 一、真空镀膜材料 1．高纯真空溅射靶材（99.9％——99.999％） 高纯金属靶材：锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、钽靶Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、不锈钢靶材S.S等…… 2.多元合金靶材： 钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr、镍铝靶Ni-Al、镍钒靶Ni-V、镍铁靶Ni-Fe、铁钴靶Fe-Co、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si、锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等…… 3.陶瓷溅射靶材：ITO靶、单晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化钛靶TiO2、氟化镁靶MgF2、氟化钙靶CaF2、*靶LiF2、*靶BaF2、氧化锆靶ZrO2、二硼化钛靶TiB2、氧化镁靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二钇靶Y2O3、*靶V2O5、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、硫化钨靶WS、氧化锌铝靶ZAO、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、五氧化二钽靶Ta2O5、五氧化二铌靶Nb2O5、氧化锌镓靶ZGO、氧化锌硼靶ZBO、*化镓靶GaAs，磷化镓靶GaP，*靶、锰酸锂靶、镍钴酸锂靶、钽酸锂靶，铌酸锂靶、等… 4.稀土金属靶：镧靶、铈靶、镨靶、钕靶、钐靶、铕靶、钆靶、铽靶、镝靶、钬靶、铒靶、铥靶、镱靶、镥靶、钇靶等… 5.稀土氧化物靶：氧化镧靶、氧化铈靶、氧化镨靶、氧化钐靶、氧化铕靶、氧化钕靶、氧化钆靶、氧化铽靶、氧化镝靶、氧化钬靶、氧化铒靶、氧化铥靶、氧化镱靶、氧化镥靶 金属膜电阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu 6.溅射靶材： 金属膜电阻器用靶材包括高阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。

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