1.超大规模集成电路多层铜布线化学机械全局平面化抛光液 2.纳米粒子抛光液 3.化学机械抛光中抛光液流动的微**性分析 4.pH值和浓度对CeO2抛光液性能影响的研究 5.超细氧化铝抛光液的制备及其抛光特性研究 6.抛光液中缓蚀剂对铜硅片的影响 7.纳米SiO2粒子抛光液的制备及其抛光性能 8.铜在*-铁*化学机械抛光液中的腐蚀与钝化 9.纳米金刚石计算机磁头抛光液的研制及应用 10.ULSI多层铜布线钽阻挡层及其CMP抛光液的优化 11.微电子器件制备中CMP抛光技术与抛光液的研究 12.ULSI铜多层布线中钽阻挡层CMP抛光液的研究与优化 13.铜CMP中SiO2抛光液的凝胶及其*实验 14.不锈钢化学抛光液研究的现状与发展 15.超大规模集成电路制备中硅衬底抛光液研究 16.适于ULSI的一种新的铜的CMP抛光液 17.铜在*介质苯并*抛光液中化学－机械抛光时的电化学行为 18.铜在*介质铁*CMP抛光液中抛光速率及其影响因素的研究 19.铜在苯并*抛光液中的抛光速率及其影响因素 20.磁流变抛光液的研制 21.ULSI铜互连线CMP抛光液的研制 22.用于铜的化学机械抛光液的研究 23.Cu-CMP抛光液中有机碱的化学作用实验分析 24.光学冷加工抛光液温度控制系统 25.铜在*介质铁*抛光液中CMP的电化学行为研究 26.ULSI制备中多层布线导体铜的抛光液与抛光技术的研究 27.铝和铝合金碱性化学抛光液及工艺的研究 28.*-*体系抛光液对铝型材化学抛光的研究 29.用离子色谱法定量测定电镀抛光液中的柠檬酸 30.有机抛光液中*浓度的定量测定 31.常温电解抛光液研制及参数选择研究 32.《*轿车漆面精整抛光剂的开发与研究》通过鉴定 33.高性能环保不锈钢化学抛光剂的研制 34.抛光剂——具有长效光泽和耐水耐化学性的无甲醛地板抛光剂：JP2005—89 627 35.不锈钢制品固体抛光剂的研制与应用 36.新型不锈钢化学抛光剂工艺研究 37.有机硅在抛光剂系列产品中的应用 38.轿车精整抛光剂的研制 39.硬表面用抛光剂 40.自流平无磨料抛光剂 41.汽车车体表面用抛光剂 42.- 用于化学机械平坦化的多步抛光液 43.- 核/壳型纳米粒子研磨剂抛光液组合物及其制备方法 44.- 高介电材料钛酸锶钡化学机械抛光用的纳米抛光液 45.- 抛光液和抛光有色金属材料的方法 46.- 硫系相变材料化学机械抛光的无磨料抛光液及其应用 47.- 硫系化合物相变材料化学机械抛光的纳米抛光液及其应用 48.- 一种水基纳米金刚石抛光液及其制造方法 49.- 可选择性阻隔金属的抛光液 50.- 抛光液组合物 51.- 一种化学机械抛光液 52.- 化学抛光液 53.- 一种浮法抛光液膜厚度测量装置 54.- 铜化学－机械抛光工艺用抛光液 55.- 超大规模集成电路多层铜布线中铜与钽的化学机械全局平面化抛光液 56.- 超大规模集成电路多层铜布线用化学机械全局平面化抛光液 57.- 抛光液组合物 58.- 纳米级抛光液及其制备方法 59.- 不锈钢抛光液 60.- 金属表面抛光液 61.- 不锈钢表面化学抛光液及化学抛光方法 62.- 用于不锈钢表面化学抛光的抛光液和方法 63.- 抛光方法和组合物 64.- 抛光液 65.- 一种加氧化剂酸性硅溶胶抛光液的配制方法 66.- 交联型环保汽车抛光剂的产业化生产 67.- 木质地板、家具护理用的抛光剂组合物 68.- *脂改性的地板抛光剂用乳胶 69.- 抛光组合物 70.- 硅藻土磨料抛光剂的制备方法 71.- 一种不锈钢制品的化学抛光剂及其工艺 72.- 抛光剂及基片的抛光方法 73.- 含水涂料组合物和地板抛光组合物 74.- 抛光剂组合物 75.- 抛光剂组合物 76.- 抛光剂组合物 77.- 抛光剂组合物 78.- 抛光剂及其制造方法以及抛光方法 79.- 抛光剂和生产平面层的方法 80.- 含*的铝型材酸性抛光剂 81.- 车用多功能一体化清洁抛光剂的制备及使用方法 82.- 聚合物作为家具抛光剂的应用 83.- 包括硅氧化物的微粒收集品和含有硅氧化物微粒分散体的抛光剂 84.- 一种化学抛光剂及其使用方法 85.- 含有一种由硅酸抛光剂和氧化铝组成的抛光剂组合物的牙齿清洁剂 86.- 半导体基片用的抛光剂 87- 溶胶型硅片抛光剂 88.- 纳米二氧化硅抛光剂及其制备方法 89.- 抛光剂组合物 90.- 抛光组合物 91.- VCD光碟片抛光剂 92.- 含有酸-胺胶乳的水基抛光剂组合物 93.- 无擦伤去污擦光系列产品 94.- 抛光剂 95.- 固体抛光剂 96.- 一种活性抛光剂及其制备方法 97.- 一种快速抛光剂 98.- 抛光浆料及其制备方法和抛光基板的方法 99.- 化学机械抛光浆料及抛光基板的方法 100.- 化学机械抛光浆液 101.- 化学机械抛光铜表面用的腐蚀延迟抛光浆液 102.- 化学机械抛光浆料和使用该浆料的化学机械抛光方法 103.- 用于金属的化学机械抛光浆液及利用该浆液制备半导体装置的金属线接触插头的方法 104.- 一种用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料 105.- 铈基抛光料和铈基抛光浆料 106.- 化学/机械抛光浆和使用它的化学机械抛光方法 107.- 一种用于化学-机械抛光浆中颗粒的制备方法以及该方法制备的颗粒 108.- 一种化学-机械抛光浆料和方法 109.- 抛光浆料 110.- 抛光组合物和抛光方法 111.- 用于CMP的含*的抛光组合物 112.- 化学机械抛光浆料和其使用方法 113.- 用于铜/钽基材的化学机械抛光浆料 114.- 用于铜/钽基材的化学机械抛光浆料 115.- 用于铜基材的化学机械抛光浆料 116.- 用于铜的化学机械抛光(CMP)浆液以及用于集成电路制造的方法 117.- 用于化学机械抛光的多氧化剂浆料 118.- 改进的抛光浆料和其使用方法 120.- 一种石材镜面效果抛光膏的制作方法 121.- 化学机械法抛光二氧化硅薄膜用抛光膏   现已开通**800多个城市免费快递 货到付款服务   中国企业技术网 客服电话：*********  ********* 值班手机：1891055**** 官方网站：*** *** 标签：     北京市抛光液   北京市抛光液厂家
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