MS-450高真空多靶磁控溅射镀膜机



真空腔室：直径450✕H400mm，1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接，前开门结构；


真空系统：机械泵+分子泵（进口和国产可选）；

**限真空：优于5✕10-5Pa（经烘烤除气后）；

真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min；

升降基片台：2～6英寸基片台，靶基距60～120mm连续在线自动可调，旋转0～20r/min可调，可加热至500℃（可选水冷功能），可选配偏压清洗功能；

磁控靶：直径3英寸2～4只（可升级成直径4英寸靶2～3只），兼容直流和射频，可以溅射磁性材料的靶材；

溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选；

质量流量计：2～3路工艺气体，可根据工艺要求增加；

膜厚监控仪：可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪；

控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空。

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