赫尔槽的阴**板与阳**板互不平行，阴**的离阳**较近的一端称近端；另一端离阳**远，称远端。

由于电流从阳**流到阴**的近端和远端的路径不同，不同路径槽液的电阻也不同，因此阴**上的电流密度从远端到近端逐渐增大，250mL的赫尔槽近端的电流密度是远端的50倍。

因而一次试验便能观察到相当宽范围的电流密度下所获得的镀层。

有人经过酸性镀铜、酸性镀镍、橄化镀锌、氰化镀镐四种镀液在不同电流强度下进行电镀试验并取它们的平均值，得到阴**上各点的电流密度与该点离近端距离关系的经验公式： 1000mL赫尔槽 Jk=I*3.26一3.05* logX） 267mL赫尔槽 Jk=I*(5.10一5.24* logX) 式中 Jk—阴**上某点的电流密度值〔A/dm2〕; I--试验时的电流强度（A）； X--阴**上该点距近端的距离(cm)．必须注意，靠近阴**两端各点计算所得的电流密度是不正确的。

X=0.635--8.255cm范围内，计算值有参考价值． 267mL赫尔槽中放入 250mL镀液做试脸时，阴**上各点的电流密度应是 标签：     济南市霍尔槽   济南市霍尔槽厂家
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