产品参数 品牌：超宝 加工定制：是 机器类型：加香机 用途：家用 原理：超声波 产品特点 某研究机构采用Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 对碲*汞晶体进行蚀刻, 并研究碲*汞晶体蚀刻后的电学特性. Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 技术参数: 基板尺寸 < Ф8 X 1wfr 样品台 直接冷却（水冷）0-90 度旋转 离子源 16cm 考夫曼离子源 均匀性 ±5% for 4”Ф 硅片刻蚀率 20 nm/min 温度 <100 Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 离子源是配伯东公司代理美国 考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的考夫曼离子源 KDC 160 伯东美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 技术参数： 离子源型号 离子源 KDC 160 Discharge DC 热离子 离子束流 >650 mA 离子动能 100-1200 V 栅**直径 16 cm Φ 离子束 聚焦, 平行, 散射 流量 2-30 sccm 通气 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 典型压力 < 0.5m Torr 中和器 灯丝 Hakuto 离子刻蚀机 10IBE 真空腔采用 Pfeiffer 涡轮分子泵 Hipace 700, 可抽的真空度 < 1 · 10-7 hpa, 良好的保持真空腔的真空度. 试验利用迁移率谱分析了离子束刻蚀后的碲*汞晶体, 发现 180μm 的 p 型碲*汞晶体在刻蚀后完全转为 n 型, 且由两个不同电学特性的电子层组成:低迁移率的表面电子层和高迁移率的体电子层. 通过分析不同温度下的迁移率谱, 表明表面电子层的迁移率不随温度而变化, 而体电子层的迁移率随温度的变化与传统的n型碲*汞材料一致. 不同厚度下的霍尔参数表明体电子层的电学性质均匀. 另外,通过计算得到表面电子层的浓度要比体电子层高 2—3 个数量级. 若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 : 上海伯东 : 罗先生 台湾伯东 : 王小姐 T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049 M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958 ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw 伯东版权所有, 翻拷必究! 产品实拍 伯东企业（上海）有限公司 高低温试验箱 离子源 制冷剂 真空阀门 公司简介 伯东公司成立于1953 年，*范围内有一千七百名员工。

伯东企业(上海)有限公司(www.hakuto-vacuum.cn)主要从事半导体设备、电子零部件加工、销售及相关服务工作，集团年营业额约为100亿*。

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Hakuto离子蚀刻机10IBE应用于碲镉汞晶体电学特性研究

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