设备介绍：       晶体管主要材质为半导体，从1947年被研制成功后，发展至今，被广泛融入到生活当中。

晶体管主要被用于开关、信号调试等领域。

由于其半导体的材质介于导电和不导电之间，因此晶体管的制备选用不导电的超纯水。

超纯水设备操作简单，占地面积小，运行过程中几乎将水中的杂质完全除去，出水不导电，符合晶体管生产的用水需求，是电子行业的重要设备之一。

性能优势: 1、日常保养，操作简单、劳动强度低。

2、无污染物排放，既环保又省去了废液处理的投资。

3、可连续，稳定地生产*纯水，无需因树脂再生而停机。

设备结构紧凑，占地面积小，节约空间，同时还具有节能优点。

污染物对设备效果的影响: 1、氯和臭氧会氧化离子交换树脂和离子交换膜，引起EDI组件功能减低。

氧化还会使TOC含量明显增加，污染离子交换树脂和膜，降低离子迁移速度。

另外，氧化作用使得树脂破裂,通过组件的压力损失将增加。

铁和其它的变价金属离子可对树脂氧化起催化作用，*地降低树脂和膜的性能。

2、对晶体管生产用超纯水设备影响较大的污染物包括硬度离子、有机物、固体悬浮物、氧化剂和*以及*等。

设计超纯水系统时应在超纯水的预处理过程除掉这些污染物。

在预处理中降低这些污染物的浓度可以提高超纯水的性能。

3、硬度离子能在反渗透和EDI单元中引起结垢。

结垢一般在浓水室膜的表面发生，该处pH值较高。

此时，浓水入水和出水间的压力差增加，电流量降低。

组件设计采取了避免结垢的措施，可使入水硬度降到**小将会延长清洗周期并且提高超纯水系统的利用率。

悬浮物和胶体会引起膜和树脂的污染和堵塞，树脂间隙的堵塞导致EDI组件的压力损失增加。

4、*有两种效果。

首先，CO32-和Ca2+、Mg2+形成碳酸盐类结垢，这种垢的形成与给水的离子浓度和pH有关。

其次，由于CO2的电荷与pH值有关，而其被RO和EDI的去除都依赖于其电荷，因此它的去除效率是变化的。

即使较低的CO2都能显著地降低产品水的电阻率。

5、有机物被吸引到树脂和膜的表面导致其被污染，使得被污染的膜和树脂迁移离子的效率降低，膜堆电阻将增加。

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