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高纯金属碲靶材 Te靶材 磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料

  • 发布时间:2023年10月29日 12:49
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商品详情
  高纯金属碲靶材 Te靶材  磁控溅射靶材 电子镀膜蒸发料   纯度:99.99% 中文名 碲 分子量  127.6 原子序数 52  密    度  6.25×10kg/m 熔    点 452℃ 沸    点 1390℃ 标签: 碲靶材 Te靶材   碲靶材 Te靶材   北京市高纯金属   北京市高纯金属厂家
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