喷涂*靶材 Spray SiAl Target 产品说明Product description 以等离子体为热源，在大气环境下通过一定的气氛保护装置，将Si+Al粉末加热到熔融或半熔融状态并高速冲击背管表面形成致密涂层，从而制备出高纯度、低氧含量、高致密度SiAl靶材。

With plasma as the heat source, high purity, low oxygen content, high density SiAl targets are produced by using Si and Al powders. The starting Si and Al powders are heated to molten or semi-molten state with the protection of certain atmosphere and sprayed on the surface of backing tube at high speeds to form dense coatings. 项目 Item 参数 Specifications 检测手段 Testing method 纯度 Purity ≥99.9%   Al含量 Al Content 8-10%   密度 Density ≥2.2 g/cm3    杂质含量 Impurities Fe: ≤350 ppm Ca: ≤50 ppm Cu: ≤50 ppm Mg: ≤20 ppm Ni: ≤20 ppm O: ≤6000 ppm N: ≤500 ppm 杂质总和(O、N除外): ≤1000 ppm Total impurity (excluding O, N) ICP 氧氮分析仪  Oxygen and nitrogen analyzer   电阻率 Electrical resistivity ≤50 mΩcm 四探针电阻率仪 Four-probe resistivity meter 背管材质 Backing tube -选用304/316L不锈钢（无磁） 304/316L stainless steel (non-magnetic)   靶材尺寸Dimension -按照图纸要求加工  According to customized drawings   应用领域Applications -用于制作SiO2膜、Si3N4膜，主要用于光学玻璃AR膜，LOW-E镀膜玻璃，半导体电子器件，TFT-LCD，平面显示，触摸屏玻璃。

For de*ition of SiO2 and Si3N4 films, which are used for AR films of optical glasses, LOW-E glasses, electronic devices, TFT-LCD, flat panel screens, touch screen glasses. 标签： 玻璃镀膜... 磁控溅射... 真空镀膜... 喷涂靶材 触摸屏镀...   玻璃镀膜靶材 磁控溅射靶材 真空镀膜靶材 喷涂靶材 触摸屏镀膜材料 光学玻璃镀膜材料 low-E玻璃镀膜材料 SiO2膜 Si3N4膜   合肥市靶材   合肥市靶材厂家
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