硅化铪靶材  HfSi2靶材 磁控溅射靶材 电子束蒸发料 纯度：99.5% 中文名 硅化铪  英文名 Hafnium silicide EINECS 235-640-1 分子式  HfSi2 分子量 242.62 稳定性 常温常压下稳定 标签： 硅化铪靶 HfSi 磁控溅射   硅化铪靶材 HfSi2靶材 磁控溅射靶材   北京市硅化铪靶材靶材   北京市硅化铪靶材靶材厂家
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