临沂研创新材料科技有限公司 名  称：二氧化铪 熔  点：2812℃ 符  号：HfO2           原子量：210.49 密  度：9.68g/cm3 纯  度：4N  产品规格 状态 纯度 尺寸 包装 颗粒（黑色） 4N 1-3mm或压片状 100g，500g，1kg 颗粒（白色） 4N 1-3mm或压片状 100g，500g，1kg 粉末 4N 200目 100g、250g、1kg 靶材 4N Φ50.8、Φ76.2、Φ101.6 真空包装 产品优点 蒸发压力：在2678℃时1Pa；在2875℃时10Pa 线膨胀系数：5.6×10-6/K 溶解度：不溶解于水 薄膜特性：透光范围～220～12000nm；折射率（250nm）～2.15 （500nm）～2 蒸发条件：用电子*，氧分压～1～2×10-2Pa。

蒸发温度～2600～2800℃，基片温度～250℃，蒸发速率2nm/s 应用领域:UV增透膜，干涉膜 临沂研创新材料科技有限公司*单质金属靶材 合金靶材 陶瓷溅射靶材 及熔炼添加镀膜材料如下 合金靶材：钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝  V-Al 、 铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等。

 陶瓷靶材  ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶，五氧化二钽，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、*靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、等陶瓷靶材。

产品通过各种方法（磁控溅射、真空镀等）应用真空镀膜的各种领域：科学研究，航天航空，汽车，微电子，集成电路产业，光源，光学，装饰，平面显示器产业，信息存储产业，数据存储等等。

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