磁控溅射镀膜是一种新型的物*相镀膜方式,溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。

(图片仅供参考) 项目 铜铟镓硒靶材（CuInGaSe）比例（按客户需求） 纯度 99.9%-99.999% 尺寸 圆形：2-8英寸  方形：1000mm  可根据用户需要进行定制 公差 ±0.1mm 用途 溅射镀膜 蒸发镀膜  实验或研究级别 产品优势 纯度高，杂质少，相对致密度高，晶粒均匀，一致性高 产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/检测单/正规* 包装说明 送货上门或国内快递承运 服务 提供免费样品&材料应用解决方案 标签： 阿尔法   阿尔法   成都市铜铟镓硒靶材靶材   成都市铜铟镓硒靶材靶材厂家
四川 成都市[阿尔法] 成都市铜铟镓硒靶材靶材厂家
供应用于磁控溅射的铜铟镓硒靶材 CIGS靶材

本文地址：https://www.zhuigan.cn/product/989763.html