磁控溅射靶材（可为电子与半导体，平面显示行业，氧化铟锡旋转靶材，建筑与汽车玻璃行业，薄膜太阳能电池行业，磁存储行业，工具行业，装饰行业提供*靶材）高纯单质金属溅射靶材（ 3N-6N ） ：铝靶Al，铬靶Cr，ito旋转靶材，铜靶Cu，镍靶Ni，硅靶Si，锗靶Ge，铌靶Nb，钛钯Ti，铟靶In，银靶Ag，锡靶Sn，石墨靶C，钽靶Ta，钼靶Mo，金靶Au，铪靶Hf，锰靶Mn，锆靶Zr，镁靶Mg，锌靶Zn，铅靶Pb，铱靶Ir，钇靶Y，铈靶Ce，镧靶La，镱靶Yb，钆靶Gd，铂靶Pt等高纯单质金属溅射靶材。

平面显示器用靶材 平面显示器（FPD) 近年来大幅冲 以阴**射线管 (CRT) 为主的电脑显示器及电视机市场，亦将带动ITO靶材的技术与市场需求。

现在的1 T O靶材有两种．一 种是采用纳米状态的氧化铟和氧化锡粉混合后烧结，一种是采用铟锡合金靶材。

铟锡台金靶材可以采用 直流反应溅射制造 I T O薄膜，但是靶表面会氧化而影 响溅射率，氧化锌镓旋转靶材，并且不易得到大尺寸的台金靶材。

靶材简介简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。

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