锗靶 概况：是一种化学元素，它的化学符号是Ge，原子序数是32。

性状：锗是一种重要的半导体材料，用于制造晶体管及各种电子装置。

物理性质： 状态：固态  密度（接近室温）：5.323 g·cm3  熔点时液体密度：5.60 g·cm3  熔点：1211.40 K，938.25 °C，1720.85 °F  沸点：3106 K，2833 °C，5131 °F  熔化热：36.94 kJ·mol1  汽化热：334 kJ·mol1  比热容：23.222 J·mol1·K1  原子性质（Atomic properties）： 氧化态：4, 3, 2, 1, 0, -1, -2, -3, -4（两性氧化物）  电负性：2.01（鲍林标度）  原子半径：122 pm  原子半径（计算值）：122 pm  范德华半径：211 pm  **少起订量：1片，量大优惠 供货能力：同批次，同材质，持续可靠供应；100kg/月 交货期：单片材料1周内发货，批量材料15天-20天内发货（工作日） 制作工艺：真空磁悬浮熔炼 ，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工 适用仪器：各类型号磁控溅射设备等 产品用途：工业级镀膜，实验或研究级别用锗靶材，电子，光电，*，装饰，功能薄膜等 产品优点：1、质量可靠，*惠2、真空熔炼，设备提纯，纯度高，杂质少3、.轧制致密，氧化少，成型可塑4、相对致密度高，晶粒均匀等轴，一致性高 产品附件：正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规* 包装方式：真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装 运输方式：国内快递承运（顺丰，申通，EMS，德邦） 常规靶材生产工艺为：铸锭（感应电溶解电子束熔炼法连续铸造）→→成型（锻造→热轧或冷轧→拉伸）→→热处理（均质化，再烧结）→→精密机械加工（切削，铣，车，磨，刨）→→与背板结合（软焊，扩散焊）→→检测（超声波，X光射线探伤）→→包装运输 以下只是我们为了不同类型客户方便而定制的常规尺寸规格，我们可以为客户定制与以下形状，规格尺寸，公差要求，纯度等都不同的产品。

 产品名称          规格尺寸              产品纯度 锗粒（Ge） 1-10mm 99.999%  99.9999%  99.99999% 锗粉（Ge） 0.25um—0.5um -200目 -400目 99.999%  99.9999% 锗片（Ge） 0.5mm—3.0mm 99.999%  99.9999%  99.99999% 我们所能提供的标准包装为：100g   250g   500g   1000g    10kg    25kg   50kg  标签：     北京市锗   北京市锗厂家
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