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供应刻蚀SiGe刻蚀锗硅

  • 发布时间：2023年11月03日 14:16
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商品详情
刻蚀SiGe——刻蚀锗硅 Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente • 对一个Si/SiGe/Si异质结构的各项异性的刻蚀• 速率大约100纳米/分钟• 0.5微米深• 光刻胶掩模已去除 标签：     北京市刻蚀刻蚀锗硅   北京市刻蚀刻蚀锗硅厂家
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