溅射靶材北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。

公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

解决靶材的结晶取向靶材溅射时， 靶材中的原子**容易沿着密排面方向择优溅射出来，材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大。

因此， 获得一定结晶取向的靶材结构对解决上述问题至关重要。

但要使靶材组织获得一定取向的结晶结构， 存在较大难度， 只有根据靶材的组织结构特点，氧化锑， 采用不同的成型方法， 热处理工艺进行控制。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材  *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~ 金属靶材的前景      北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，氧化锑价格，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。

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       钨-钛靶材作为光伏电池镀膜材料是**近发展起来的，它作为第三代太阳能电池的阻挡层是好的选择。

由于 W-Ti 系列薄膜具有非常优良的性能，近几年来应用量急剧增加，氧化锑供应商，2008年W-Ti 靶材*用量已达到400t，随着光伏产业的发展，这种靶材的需求量会越来越大。

具行业预测其用量还会有很大的增加。

国际太阳能电池市场以*的速度增长，目前*有30 多公司参与太阳能市场的进一步开发， 并已有的公司产品投入市场。

我国研发的超大尺寸、高密度、高纯W-Ti 靶材，是属于新型的离子溅射镀膜靶材料。

可广泛应用于显示屏的阻挡层或调色层，笔记本电脑的装饰层、电池的封装、太阳能（光伏）电池的阻挡层，具有很好市场前景和经济效益。

另一方面又可带动我国钨产业的产品升级换代，获得更高的附加值。

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靶材的成分与结构均匀性 为了保证溅射薄膜均匀，尤其在复杂的大面积镀膜应用方面，必须做到靶材成分与结构均匀性好，氧化锑出售，这也是考察陶瓷靶材质量的重要指标之一。

例如，为了保证质量，要求ITO靶中In2O3， SnO2组成均匀，都为93：7或91：9(分子比)。

特别是溅射靶材的微观结构均匀性对溅射时的成膜速率、沉积薄膜的质量及厚度分布等均有很大的影响。

根据有关研究表明，细晶粒（<100μm）结构溅射靶材的成膜速率大于粗晶粒靶。

因此，当陶瓷靶材在靶面尺寸上的晶粒分布不均匀时，将造成沉积薄膜厚度分布的不均匀现象。

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