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      镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。

简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武1器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。

例如：蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。

更换不同的靶材（如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。

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    也有人采用射频溅射技术以Ti为靶材制备TiO2薄膜。

射频溅射时采用的气氛为O2和Ar的混合气体，通过控制压力控制所得薄膜的相态;对于一些特殊基体，稀土合金靶材，还要考虑薄膜与基体之间的附着性能，根据基体的性质采取相应的工艺;实际生产中，在低成本前提下大规模镀膜，要求较高的沉积速率，射频溅射沉积速率很低，钛合金靶材，不适合大规模生产。

    与以Ti为靶材相比，以TiO2为靶材，可将复杂的反应过程转化为较简单的物理过程。

TiO2靶材通常导电性很差，由于一定的溅射速率需要一定的工作电流，若用直流溅射，则需大幅度提高直流溅射电源的电压来弥补靶材导电性不足引起的电压降。

射频溅射对靶材的导电性没有要求，适用于各种金属和非金属材料，因此，射频溅射法的应用比较广泛。

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