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金属锗靶材 Ge靶材磁控溅射

发布时间：2023年11月03日 14:16
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金属锗靶材 Ge靶材磁控溅射靶材电子镀膜蒸发料纯度：99.99% 中文名锗水溶性不溶于水分子量 72.61 原子序数 32 熔点 938.25℃ 沸点 2830℃ 标签：北京市磁控溅射北京市磁控溅射厂家

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